噴涂制備金屬靶是利用電弧將靶材材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài)，借助高速氣體將其霧化，形成小的熔滴，并加速噴射到襯管或襯板表面，快速冷卻凝固成金屬涂層靶材的過程。非金屬和陶瓷靶通常是利用等離子加熱粉末材料的方法噴涂制成。靶材熔鑄技術可分為三種不同的澆鑄形式：無襯管或襯板的整體式甩帶澆鑄、有襯管或襯板的直接澆鑄、分段甩帶澆鑄再粘結成靶材（Ag等）。

　　熱噴涂和熔鑄靶材不同的生產過程決定了不同的成本構成。熱噴涂靶材的生產成本隨靶材厚度的增加而加大，噴涂靶材可以通過調整噴涂工藝獲得不同的靶材尺寸，噴涂的時間、消耗的氣體和能量是影響其成本的主要因素。而熔鑄旋轉靶材的成本隨厚度變化較小，靶材先熔鑄成型，而后機械加工達到尺寸要求。對于不同尺寸的旋轉靶材，其原材料和加工成本基本是固定的。

　　國外企業(yè)大多使用的是噴涂工藝的旋轉陰較靶材，靶材的利用率高，可以到達80%，因而大量節(jié)約鍍膜成本，噴涂旋轉靶材在鍍膜行業(yè)得到了廣泛應用。

      以這款噴涂的旋轉硅鋁靶為例：  旋轉硅鋁靶 Rotatable SiAl Alloy target   應用：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光學玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半導體電子, TFT, 平面顯示. 觸摸屏玻璃  產品化學成分和物理性能： 化學式：SiAl成分： SiAl（90：10wt%±2%、25:75wt%） 成型工藝：噴涂 密度:  >2.2g/cm3（>94%） 純度:  > 99.9% 雜質含量 （單位:  ppm， 總雜質含量≤ 1000ppm)  加工尺寸 長度L 4000MM    厚度T 6-13MM 直型、狗骨型 按客戶要求定做