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FTO:摻氟二氧化錫(SnO2:F),主要用于磁控濺射透明導電膜。
摻氟二氧化錫(FTO)靶材的常見比例
摻氟二氧化錫(FTO)靶材99.99% SnO2:F=95:5 wt%
摻氟二氧化錫(FTO)靶材99.99% SnO2:F=98:2 wt%
摻氟二氧化錫(FTO)靶材 99.99% SnO2:F=90:10 wt%1.高溫條件下,錫化合物、氟化合物氣體反應制粉
2.FTO粉末研磨
3.熱壓成片
4.檢測成分
5.機械加工
6.背靶綁定

公司簡介 Company Introduction北京金源新材科技有限公司是一家以研發(fā)、生產、銷售各類高 新材料為主的企業(yè),公司在新材料行業(yè)技術先進,注重技術創(chuàng)新,公司秉承“誠信 務實,追求卓越”的企業(yè)精神,以“服務于 PVD 鍍膜材料”為宗旨。 主要產品包括高純金屬材料、磁控濺射靶材、真空蒸發(fā)鍍膜材料、 稀土材料等,產品廣泛應用于航空航天、太陽能光伏企業(yè)、光學鍍膜、半導體集成 電路、平板顯示、記錄介質、表面涂層等領域。銷售部:13520577626/15210523788 QQ:2324865248 郵箱: sales@ginsrc.com
氮化鈦(TiN)靶材 99.9%氮化鈦(TiN)靶材 99.9% 純度:,3N 規(guī)格:D50.8X5mm,D76.2X6.3
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氮化硅(Si3N4)靶材 99.99%氮化硅(Si3N4)靶材 99.99% 純度:99.9% 分子式:Si3N4 分子量:140.2
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碲化鉍(Bi2Te3)靶材 99.99%碲化鉍靶材(Bi2Te3)4N 理化性質碲化鉍是一種灰色的粉末,分子式為Bi
2024-08-06
碲化鉬(MoTe2)靶材 99.9%碲化鉬(MoTe2)靶材 99.9%
2024-08-06詆毀、惡意攻擊、無事實依據(jù)、非正能量的消極評語會被管理員刪除,您的評語可能對其他人有很高的參考價值。